H.266/VVC相关技术学习笔记：O0343——Simplification on CCLM process

这次会议还有一篇关于关于简化CCLM操作的提案也值的大家学习关注。

在WD 5.0中，包括相邻样本位置推导，亮度下采样和线性模型参数推导的CCLM过程具有许多条件分支，这在硬件和软件实现方面是不期望的。因此所提出的方法对于不可用的参考样本，借用WD中帧内预测的参考样本填充过程，使用可用参考样本填充。由此简化CCLM的这些过程。简化的部分如下表所示：

①简化相邻样本位置推导过程，固定地选择四个点
②简化亮度下采样过程，去除大多数条件分支和各种滤波器，从而使用统一的亮度下采样滤波器。
③简化线性模型参数的推导，始终只用四个点，节省了一些额外操作

首先针对②，有如下测试（Test1）：
其中红色框框起来的部分是内部的点，原来用于内部点的亮度下采样滤波器有好多种，而且由于有的相邻像素有效或者无效，因此会有好多种下采样分支以及多种滤波器。
由于像素点的填充，相邻位置总会有参考像素，因此就可以省去很多操作分支以及滤波器，如下图所示：

上相邻参考像素的下采样滤波的简化

左相邻参考像素的下采样滤波的简化
针对①，选取固定位置的四个点做了如下测试（Test2）
两个测试结果如下表所示：